≡

仪器设备 Facilities

  • 自主研制的溅射外延系统 - I（超高真空10-9Torr，高氧压 760 Torr，高温 1200 oC）
  • ​

 

  • 自主研制的溅射外延系统 - II （超高真空10-9Torr，高氧压 760 Torr，高温 1000oC）

 

  • 自主研制的溅射外延系统 - III （超高真空10-9Torr，高氧压 760 Torr，高温 850oC）
  •  

 

  • 自主研制的溅射外延系统 - Ⅳ 

 

  • MBE-ARPES 联合系统

 

  • 工业级溅射系统 

          

  •  高品质陶瓷靶材制备间

 

  • 低温强磁场电输运系统

 

  • 变温Hall测量仪

 

  • 大科学装置 - 同步辐射光源

 

  • 光电化学测试系统

 

  • 自动压力研磨抛光机

 

最后修改：2024-06-20 18:31:19,   访问次数：12239